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가열을 하거나,, 그 기울기로부터 반응속도를 알아낸다. 따라서 외부 조건을 변화시키면 반응 물질과 생성 물질의 존재비가 달라져서 새로운 평형 상태에 도달하게 된다. 화학 평형 3) 화학 평형 화학 평형이란 가역반응에서 온도나 압력 등의 반응 조건이 일정하게 유지되어 정반응의 속도와 역반응의 속도가 평형인 상태로 겉보기에 반응이 진행되지 않는 것처럼 보이는 상태를 말한다.온도변화와 화학평형 Up 온도변화와 화학평형. 따라서 평형 상태는 정지된 것이 아니고 정반응과 역반응이 계속 진행되는 상태이지만 두 반응의 속도가 같은 상태이다. .zip 온도변화와 화학평형 반응 속도에 영향을 미치는 요인과 화학평형에 관해 실험한 자료입니다. 반응 속도 . , KI를 촉매로 넣어주면 반응의 속도가 상당히 빨라지게 된다. 이번 실험은 과산화수소(H2O2)가 물과 산소 기체로 분해되는 반응의 속도를 측정하는 것이다. 평형 상태에서는 반응 물질과 생성 물질이 공존한다.hwp 파일자료 (첨부파일). 반응 물질과 생성 물질의  ......

 

 

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온도변화와 화학평형

 

반응 속도에 영향을 미치는 요인과 화학평형에 관해 실험한 자료입니다. 온도변화와_화학평형

 

1. 반응 속도

2. 반응 속도에 영향을 미치는 요인

3. 화학 평형

3) 화학 평형

 

화학 평형이란 가역반응에서 온도나 압력 등의 반응 조건이 일정하게 유지되어 정반응의 속도와 역반응의 속도가 평형인 상태로 겉보기에 반응이 진행되지 않는 것처럼 보이는 상태를 말한다. 이러한 현상이 나타나는 이유는 반응물이 생성물로 전환되는 속도와 생성물이 반응물로 전환되는 속도가 같기 때문이다. 따라서 평형 상태는 정지된 것이 아니고 정반응과 역반응이 계속 진행되는 상태이지만 두 반응의 속도가 같은 상태이다. 평형 상태에서는 반응 물질과 생성 물질이 공존한다. 화학 반응식의 계수는 반응 물질과 생성 물질의 존재비와는 무관하다. 반응 물질과 생성 물질의 존재비는 외부 조건에 따라 달라진다. 따라서 외부 조건을 변화시키면 반응 물질과 생성 물질의 존재비가 달라져서 새로운 평형 상태에 도달하게 된다.

 

이번 실험은 과산화수소(H2O2)가 물과 산소 기체로 분해되는 반응의 속도를 측정하는 것이다.

 

이 분해 반응의 속도는 매우 느리기 때문에 잘 일어나지 않지만, 가열을 하거나, KI를 촉매로 넣어주면 반응의 속도가 상당히 빨라지게 된다. 이 실험에서는 과산화수소의 분해반응으로 생기는 산소 기체의 양을 측정하여, 시간에 따른 산소 기체의 발생량을 그래프로 나타내어, 그 기울기로부터 반응속도를 알아낸다.

 

 

 

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